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GSL-1100X-RTP50是一款CE認證的可滑動快速熱處理爐，配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高純石英管（單端封...

GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設定程序的必然要求，精確控制溫度200℃C~1500℃C（或者 1200℃C~1700℃C），樣品臺可...

產品概述∶OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉蒸發(fā)鍍膜爐充分發揮，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS（C...

產品概述∶GSL-1600X-FS3KW是—款水平式閃燒爐充分發揮，爐體最高溫度可達1600℃℃選擇適用，配備3KW可編程交流電源，正負極電極絲可通過電極法蘭引入到剛玉樣品夾具...

產品概述∶OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐（通過磁鐵推動坩堝移動）設計，其爐管直徑為50mm.爐體最高工作溫度為1200℃業務指導，此款設備設計針對于...

產品概述∶?GSL-1100X-IⅢI-D11是一款三溫區(qū)的大型雙管爐，其最高溫度可以達到1100℃就此掀開。特殊的雙管設計長足發展，是為了通過CVD方法在箔材上大面積生長材料...

產品概述∶?OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可在爐管內移動（靠步進電機控制）的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm穩步前行，設備最高工作溫度為1200℃C結構不合理。...

產品概述∶?OTF-1200X-4-80-100-4CLV-SL雙管爐是一個特殊的雙管CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是在新—代能源研究中各有優勢，應用...

產品概述∶?TCVD-OTF-1200X-S2-5OSL是一款小型的雙爐體滑動管式爐效果較好，爐管為中50×1600mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭持續，儀器最...

三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)是一款CE認證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)等多個領域，其管徑為80mm再獲，采用機械泵，它是由管式爐應用擴展，三路浮子流量供氣系統(tǒng)組成體驗區，其真空度可達到10-2t...

MSK-SFM-9-5L 雙行星真空攪拌機應用范圍 ：MSK-SFM-9-5L型雙行星四槳真空攪拌機是集真空低速混合、高速分散為一體的高效攪拌設備進一步意見，可應用于各種...

KJ-6300再循環(huán)冷水機組的開式水箱和閉環(huán)系統(tǒng)可提供—種清潔可靠的溫控流體來源，速度頂值可達 116L/min（30G/min）共享應用。 省去了規(guī)模建設生產能力，排污成本和...

SAT（La，Sr）（Al示範推廣，Ta） O3 是一種新的無孿晶鈣鈦礦晶體堅持好。 LSAT與高溫超導體及多種氧化物材料有完好的匹配。LSAT的熔點低大幅增加，用提拉法生長特性，成本比...

NdGaO3單晶基片是近十年中發(fā)展起來的新型基片，主要用作高溫超導體（如YBCO）及磁性材料的外延薄膜生長用基片等特點。由于NdGaO3與YBCO的晶格失配很薪ㄑ灾边_。▇0...

雙爐體滑動PECVD系統(tǒng)&循環(huán)手套是一款雙爐體滑動的PECVD系統(tǒng)將進一步，并目連接有循環(huán)手套箱充分發揮。此款設備中石英爐管與一循環(huán)手套箱相連接，允許客戶用CVD方法把樣品制作...

小型滑動PECVD管式爐系統(tǒng)是一款小型的PECVD（Plasma Enhanced ChemicalVapor Deposition）（等離子體化學氣相沉積）滑...

1000°C小型RTP爐 是一款精巧型快速熱處理管式爐重要方式，配有4“石英管和真空法蘭，它是專為半導體和太陽能電池基片（頂值為3“）的退火而設計系統，采用10K...

迷你型快速加熱冷卻爐是一款CE認證的可滑動管式爐非常重要，配置外徑50x1000mm石英管，工作溫度達1200℃空間廣闊。爐底安裝一對滑軌營造一處，可滑動。加熱和冷卻速率可達100℃/...

OT-1200X-IR-ISL是一款雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐增強，其爐管直徑為4英寸文化價值，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，允許樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下移動置之不顧。此款設備...

5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐是一款快速熱處理爐不斷完善，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimati...